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| 品牌科睿设备 | 有效期至长期有效 | 最后更新2023-01-12 13:14 |
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mask aligner半自动光刻机
mask aligner半自动光刻机
光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，光刻机，紫外曝光机等；
MIDAS为全球*的半导体设备供应商，多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产，并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域。
主要特点：
-光源强度可控；
-紫外曝光，深紫外曝光(Option)；
-系统控制：手动、半自动和全自动控制；
-曝光模式：真空接触模式(接触力可调),Proximity接近模式,投影模式；
-真空吸盘范围可调；
-技术：可双面对准，可双面光刻，具有IR和CCD模式
-双CCD显微镜系统，z大放大1000倍，显示屏直接调节，比传统目镜对准更方便快捷，易于操作。
-特殊的基底卡盘可定做；
-具有楔形补偿功能。
更多详情：http://www.airtest.net.cn/Products-30824045.html
https://www.chem17.com/st17159/product_30824045.html
光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，光刻机，紫外曝光机等；
MIDAS为全球*的半导体设备供应商，多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产，并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域。
主要特点：
-光源强度可控；
-紫外曝光，深紫外曝光(Option)；
-系统控制：手动、半自动和全自动控制；
-曝光模式：真空接触模式(接触力可调),Proximity接近模式,投影模式；
-真空吸盘范围可调；
-技术：可双面对准，可双面光刻，具有IR和CCD模式
-双CCD显微镜系统，z大放大1000倍，显示屏直接调节，比传统目镜对准更方便快捷，易于操作。
-特殊的基底卡盘可定做；
-具有楔形补偿功能。
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https://www.chem17.com/st17159/product_30824045.html
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