双靶磁控溅射仪

结构  
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输入电源  
220VAC50/60Hz,单相  
2000W(包括泵)  
溅射电源  
安装有两个溅射电源  
直流（DC）电源：500W，针对于制作金属膜  
射频（RF）电源：600W，可制作氧化物和金属膜  
同时可选配300W的射频电源  
磁控溅射头  
仪器中安装有2个磁控溅射头，而且都带有水冷夹层，可通入冷却水对靶材降温  
其中一个溅射头与射频电源相连接，主要是溅射绝缘性靶材  
另一个溅射头与直流电源相连接，主要溅射导电性靶材  
靶材尺寸要求：金属靶：直径为50mm,zui大厚度1.5mm  
陶瓷靶：直径为50mm,zui大厚度6mm  
仪器中标配一个不锈钢靶和氧化铝陶瓷靶  
溅射头所需冷却水：流速10ml/min（仪器中配有一台流速为16ml/min的循环水冷机）  
也可以根据自己的要求选择2个射频溅射头或3个射频溅射头，订购前需于本公司销售人员  
真空腔体  
真空腔体：300mmDiax300mmh，采用不锈钢制作  
观察窗口：100mmdiameter  
腔体打开方式采用上顶开，使得换靶更加容易
http://www.kjmti.com.cn/SonList-1290255.html 
https://www.chem17.com/st152911/product_24006809.html